关于氟离子电极Process F的注意点

上泰的工业氟离子测定仪主要为IT-8100，主要配的电极为Process F。主要使用在半导体行业，太阳能电池行业，冶金行业等废水处理过程以及排放F的监控。一般排放口要求F的含量在15ppm以下。废水处理过程中F的含量监控在几百到几千之间都有。

此款氟离子电极Process F的设计测量范围为0-20000ppm.如果用于排放口监控，一般选用1ppm和10ppm的标准液进行两点校正。如果是反应过程中的监控，一般选用10ppm和100ppm进行两点校正。

由于去除废水中的F经常使用氢氧化钙，所以氟电极的表面经常容易形成氟化钙的结垢。在对氟离子计进行校正之前，要想办法先去除表面的结垢。方法一是用盐酸浸泡，二是使用随机配送的裘皮和滑石粉，方法是倒取少量的滑石粉于裘皮上，将电极表面的氟晶片慢慢在裘皮上摩擦，直到表面结垢去除为止。然后需要把电极浸泡在去离子水中，直到电位在200mv以上。使用过后的氟离子电极多多少少都会发生零点电位的偏移。所以泡在去离子水中的时间要稍微长一些，且每隔一小时更换一下去离子水，电位有时达不到200MV,起码也要在180MV以上，不然两点校正很难通过。

总之，相对于PH而言，氟离子的校正要稍微复杂一些，如果您在使用过程中遇到问题，请我们帮忙解决。